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离子注入是一种半导体材料的掺杂技术,具有低温掺杂、精确的剂量控制、掩蔽容易、均匀性好等优点,经离子注入掺杂所制成的几十种半导体器件和集成电路拥有速度快、功耗低、稳定性好、成品率高等特点。对于大规模、超大规模集成电路来说,离子注入是一种理想的掺杂工艺。
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