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2023年12月25日，佳能半导体机器业务部长岩本和德表示，佳能采用纳米压印技术的光刻机有望生产2nm芯片，且成本可以降至传统光刻设备的一半。在岩本和德发声的4天以前，荷兰半导体设备制造商ASML宣布，已向英特尔交付了全球首台High NA(高数值孔径)EUV(极紫外)光刻系统，支持2nm制程及以下工艺的芯片制造。
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掩膜版又称光罩、光掩膜，是光刻工艺中的关键耗材，从应用角度看，主要分为半导体掩膜版和平板显示掩膜版。随着全球显示产业进一步向中国转移，以及在高世代、高精度市场需求的带动下，2025年中国平板显示掩膜版市场规模全球占比有望超过60%。不过业内人士强调，尽管我国掩模版行业发展速度很快，但还是存在产业链断层的情况，关键原材料和设备仍被掣肘。
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导入了首台EUV光刻机并不意味着台积电在美国建厂能“万事大吉”。有消息称，首台EUV光刻机的导入也使得台积电美国亚利桑那州厂加剧人才缺口。随着建厂进入到安装先进精密设备的关键阶段，预计将有2000名相关技术人员的人才缺口。此前台积电在财报电话会议上透露，受人力开支、许可证、合规性和通货膨胀的影响，赴美设厂成本或至少是中国台湾地区的四倍。
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2月15日，ASML发布2022年度财报。报告显示，ASML在2022年销售额达到212亿欧元，与2021年相比增长了13.8%，毛利率为49.7%。
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除了积极跟踪EUV光刻机的开发进程，芯片厂商也在寻找能够替代EUV光刻机的技术。被寄予厚望的不仅仅是电子束光刻技术。铠侠力推NIL压印工艺，声称有望在2025年实现5nm工艺;台积电采用DUV光刻技术同样实现了7nm工艺，并声称DUV光刻技术可以也可以实现5nm工艺。
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9月21日，美国原子级精密制造工具的纳米技术公司Zyvex Labs发布公告，已推出世界上最高分辨率的光刻系统“ZyvexLitho1“，其使用电子束光刻技术，实现了768皮米(即0.768纳米)的原子级精密图案和亚纳米级分辨率。Zyvex Labs已经开始接受ZvyvexLitho1系统的订单，交货期约为6个月。
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近日，ASML发布二季度财报，实现销售收入54.3亿欧元，同比增长35%，环比增长54%;其中设备收入41.4亿欧元，同比增长40%，环比增长80%。在中国大陆，第二季度ASML设备收入约4亿欧元，预计2022全年中国大陆同比增长10%左右。
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摘要：2021年，全球存储器市场先扬后抑，前三个季度内存价格一路攀升，第四季度却转为供过于求，价格开始下跌。2022年，随着三大原厂对EUV的应用将进一步增加，DRAM的成本构成逐步改变，NAND闪存也将进入172层时代，存储器的市场形态或将展现出一些新的特征。
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摘要：在《瓦森纳协定》限制下，我国已初步形成自主研发90nm光刻机产业链，虽与荷兰ASML的7nm全球高端产业链相差较远，但在局部领域已达到世界领先水平，并逐渐融入ASML高端产业链。本文主要从光刻机的产业链、市场格局等方面进行介绍。
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光刻机在芯片制造领域具有举足轻重的地位，光刻机决定了晶体管的尺寸，晶体管的尺寸对于芯片的性能具有重大意义，半导体行业对于芯片性能的不断追求推动了光刻机产品的不断升级与创新。目前光刻机市场呈现寡头垄断的局面，高端技术掌握在巨头企业手中。国产光刻机的技术仍然落后于国外，在技术研发以及人才建设上还有很长的路要走。
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近年来，我国的科学技术在不断迎来突破。在发展的同时，在一些技术的发展方面仍然处于劣势，这些技术都需要进行更多的研发投入，进而促进行业的良性发展。
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在科技时代，拥有更多的技术则意味着更多的市场话语权，在光刻机市场也同样，现在基本处于市场垄断地位的ASML也是凭借的技术优势领先。
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国内的光刻机企业和国外的企业相比差距巨大，但是在这样的发展背景下，国内的光刻机技术也在实现不断的突破。
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光刻机在现在的芯片市场中处于非常重要的位置，其技术发展水平将直接影响芯片的发展。那么现在光刻机的工作原理是什么，它是怎样在芯片制造中发挥作用的呢?
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光刻机的发展限制了现在的芯片发展，现在国内的光刻机发展和国外的差距非常大，那么光刻机的技术包括哪些方面呢?
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